| Name | M2：河口祐飛 |
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| Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 507号室 |
| Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
| kawaguchi.y.ag -at- m.titech.ac.jp |
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研究分野
- 錯体水素化物
- 赤外レーザー堆積法
- 固体電解質
学歴
- 2018.3: 鈴鹿工業高等専門学校 生物応用化学科 卒業
- 2018.4: 東京大学 東京工業大学 応用化学系 編入学
- 2020.3: 東京大学 東京工業大学 応用化学系 卒業
- 2020.4: 東京大学 東京工業大学 応用化学系 修士課程 入学
最近の学会発表
- "赤外パルスレーザー堆積法を用いたNaBH4エピタキシャル薄膜の合成"
河口 祐飛, 中山 亮, Chon Seoungmin, 笹原 悠輝, 清水 亮太, 西尾 和記, 大口 裕之, Kim Sangryun, 折茂 慎一, 一杉 太郎
第8回ハイドロジェノミクス若手育成スクール 2021年8月31日 オンライン
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